商傳媒｜責任編輯／綜合外電報導
全球半導體設備大廠應用材料（Applied Materials）與日本快閃記憶體及固態硬碟供應商鎧俠（KIOXIA），於週二宣布攜手合作，由鎧俠加入應用材料位於美國加州矽谷的 EPIC Center（創新中心），共同推進下一代記憶體技術的發展。這項合作鎖定提升人工智慧（AI）記憶體效能，以滿足AI時代對於更高記憶體密度與表現的需求。
根據應用材料執行長 Gary Dickerson 的說法，AI 基礎設施需要能夠提供更高密度、更寬頻寬與更佳能源效率的記憶體解決方案。透過鎧俠在記憶體技術上的深厚專業知識，結合應用材料在材料工程上的創新，雙方將在 EPIC Center 建立強大的夥伴關係，共同定義下一代記憶體的可能性。應用材料的 EPIC Center 是一項價值 50 億美元的重大投資，其目標是縮短半導體突破性技術從研發到商業化量產所需的時間。
鎧俠執行長太田裕雄也表示，記憶體的發展潛力取決於材料與製程創新的極限拓展，與應用材料的合作體現了雙方對於推動記憶體創新的共同承諾。這項策略聯盟將著重於研發下一代記憶體創新所面臨的挑戰，具體研究範疇涵蓋針對 AI 應用的先進記憶體單元與結構開發、提升密度與效能的多晶片堆疊架構，以及透過材料工程創新來實現大規模製造的可能性。
應用材料半導體產品集團總裁 Prabu Raja 指出，記憶體是 AI 創新藍圖的核心，而要在控制成本與複雜性的同時提高記憶體密度，需要材料、設備與製程技術的全面突破。此類在高階記憶體技術上的合作突破，對於全球半導體產業鏈至關重要。身為全球晶圓代工與封測重鎮的台灣，在全球半導體供應鏈中扮演關鍵角色，此項合作成果預期將間接影響台灣相關產業在 AI 記憶體領域的未來布局與技術升級。